日立高新技术推出高精度电子束计量系统GT2000，满足高数值孔径EUV一代半导体器件开发和量产需求

东京，12 年 2023 月 XNUMX 日 – (JCN 新闻专线) – 日立高新技术公司（“日立高新技术”）今天宣布推出 GT2000 高精度电子束计量系统。 GT2000采用了日立高新技术在CD-SEM(1)领域的技术和专业知识，该技术在CD-SEM(2000)领域占据着最高的市场份额。 GT3配备了针对尖端2D半导体器件的全新检测系统。 它还利用低损伤高速多点测量功能进行高数值孔径 EUV(XNUMX) 光刻胶晶圆成像，以最大程度地减少光刻胶损伤并提高批量生产的良率。

日立高科GT2000 CD-SEM将在日益小型化和复杂化的先进半导体器件的制造过程中实现高精度、高速测量和检测，并有助于提高客户在研究和生产方面的产量。 -开发和量产。

开发背景

随着半导体器件制造工艺的发展，N2（2纳米代节点）和A14（14埃代节点）的研发正在进行中。 除了在最先进的器件中应用高数值孔径 EUV 光刻之外，器件结构的复杂性预计也会增加，例如 GAA(3) 和 CFET(4) 结构。

因此，尖端半导体器件工艺开发需要在广泛的测量条件下进行高速数据采集，以测量各种材料和结构，稳定运行，并在研究阶段和批量生产中进一步改进工具与工具的匹配在增加。

关键技术

1. 适用于高NA EUV工艺的100V超低加速电压和超高速多点测量功能

在高NA EUV光刻工艺中，使用的光刻胶更薄，因此，为了高精度测量，计量工具必须对光刻胶造成尽可能小的损坏。 GT2000通过将开创性的100V超低加速电压与我们专有的高速扫描功能相结合，实现了低损伤和高精度测量。 此外，它还配备了超高速多点测量模式，可快速确定制造工艺条件并检测研发阶段的异常情况。

2. 3D器件结构高灵敏度检测系统

具有 GAA、CFET 和 3D 存储器等结构的 3D 器件除了传统的 CD 测量之外，还需要测量图案的深度、孔和沟槽的底部。 GT2000配备了全新的高灵敏度检测系统，可有效检测背散射电子，从而能够对日益复杂的器件结构进行高精度成像，并扩展新测量应用的可能性。

3.新平台和新电子光学系统，以改善工具与工具的匹配对于负责过程监控的CD-SEM来说，最重要的性能要求之一是多个工具之间的测量值差异很小。 GT2000新平台和电子光学系统经过重新设计，消除了导致测量值差异的任何因素，从而改善了工具间的匹配。

通过提供 GT2000 以及采用电子束技术的计量系统和光学晶圆检测系统，日立高新技术致力于满足客户在整个半导体制造过程中的加工、测量和检测方面的各种需求。 我们将继续为我们的产品提供创新和数字化增强的解决方案，应对即将到来的技术挑战，与客户一起创造新价值，为尖端制造做出贡献。

GT2000 网站
https://www.hitachi-hightech.com/global/en/products/semiconductor-manufacturing/cd- SEM/计量解决方案/semi-gt2000.html

GT2000 介绍视频
https://bcove.video/3TltYkl

(1) CD-SEM（临界尺寸扫描电子显微镜）：一种设计用于对晶圆上形成的精细半导体电路图案的尺寸进行高精度测量的设备。
（2）高NA（数值孔径）EUV（极紫外）：与传统设备相比，数值孔径有所改进的极紫外（13.5 nm波长）光刻设备。
（3）GAA（Gate All around）：栅极完全覆盖沟道的晶体管结构
（4）CFET（Complementary Field Effect Transistor）：n型和p型器件堆叠而成的互补场效应晶体管

关于日立高新技术公司

日立高新技术公司总部位于日本东京，业务涉及广泛领域，包括临床分析仪、生物技术产品、分析仪器、半导体制造设备和分析设备的制造和销售。 并在社会和工业基础设施、出行等领域提供高附加值的解决方案。

该公司 2022 财年的合并收入约为674.2亿日元。 欲了解更多信息，请访问https://www.hitachi-hightech.com/global/en/

联系我们:
须谷拓道
事业企划部、计量系统事业部、
日立高新技术株式会社纳米技术解决方案事业群 联系我们：日立高新技术株式会社 (hitachi-hightech.com)

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